近年来,美国已经多次逮捕华裔或者中国籍工程师、科学家和商人,指控他们涉嫌窃取美国军事机密。日前,一名美国永久居民、中国籍科学家承认为中国政府窃取美国军事机密,或将面临最重35年监刑。
美国司法部称,一名38岁中国男子12月19日认罪,承认从“联合技术公司”(United Technologies)窃取大量敏感军事项目文件并交给中国。司法部在一份声明中称,余隆(音译,Yu Long)承认参与窃取商业秘密并令外国政府受益的共谋指控;以及违反《武器出口控制法》,非法出口或试图出口国防物品的指控。其被控两项罪名,一项最高可判15年徒刑,另一项为20年。

38岁的于龙是美国合法永久居民,曾于2008年至2014年在联合技术开发中心担任高级工程师。司法部指出,2013年,于龙告诉联合技术开发中心以外的人,想将在联合国技术开发中心获得的技术和资讯等,带回中国进行相关研究。2014年5月,他在返回中国大陆时,带走了联合技术开发中心的外部硬盘。
司法部代理助理部长麦克考德(Mary McCord)说,余龙知道这些机密文件有利于中共的国防工业,而且是美国禁止出口到中国的“美国军火管制清单”(U.S. Munitions List)上的管制项目。
据悉,泽西州纽瓦克自由国际机场打算飞往中国时,被海关官员发现他的行李有机密文件,包括开发美国军机钛金属的方程式和测试结果。他被迫取消行程,二天后在纽约州伊萨卡(Ithaca)遭到逮捕。
联合科技是美国第22大制造商,业务涉及太空、国防及建筑工程科技。
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