成都电视台《成视新闻》栏目组来到中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室，对实验室打造“大国重器”，同时带动产业、惠及民生等科技创新驱动发展情况进行详细报道。
光电所微细加工光学技术国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机，结合多重曝光技术，可以用于制备10纳米以下的信息器件。
这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革，也将加快推进工业4.0，实现中国制造2025的美好愿景。
长期以来，我国的光刻技术落后于先进国家，成为我国工业现代化进程的一块短板。2006年，科技部提出了光刻技术的中长期规划，希望中科院的国家重点实验室，能找到一条绕开国外技术壁垒，具有自主知识产权的光刻路径。光电所SP光学光刻机就是绕开了传统的193纳米曝光的技术路线，利用长波长光源也可以得到一个突破衍射极限的分辨率的图形，所以在成本上安全性方面上都会有一个很大的提升，是完全具有知识产权的原创性技术。
我以前了解过，光刻机是制造电脑CPU的母机，处于科技领域的最顶层，目前世界上先进光刻机基本被荷兰的ASML公司垄断，CPU芯片制程最先进的是14纳米，不卖中国人，并且卖给中国公司的稍过时的光刻机也有条款不准用于制造像龙心这类自主研发的CPU芯片。美国、日本在这个领域都力不从心，成都太给力了。
这次国人跑的不是正道而是捷径，并且通过弯道超车一举达到了世界顶级水平。 光刻界的所谓正道，是193nm沉浸式光刻机，现在各大名厂的顶级芯片基本上是靠它做出来的。再往前走，就是十字路口了，公认的正路是EUV，反正各大厂都这么认为，并且把身家性命压在这上面了，但后者目前还达不到大规模量产的水平，而且贵得贼死，一台机器就要上亿美元！ 土鳖这次是另辟蹊径开发了SP光刻机，用表面等离子体超衍射光学光刻的原理，能刻出相当于光源波长十分之一甚至二十分之一分辨率的产品。因此我们就绕开了光源等方面的技术瓶颈，用简单可靠的技术实现了一步登天的技术跨越。
母机跟制程是两码事。国外试制中的7nm制程，是多次曝光的结果。我们这个单次22nm，多次曝光后，一样能达到10nm以下，达到国际先进甚至领先水平。 关键是我们这个新技术线路前景很远大。国外已经把传统工艺几乎做到极致了，但我们这个在许多环节上还大有精进的空间，再改进改进，把对手甩开不令人惊奇。而且这个线路的成本极低廉，商业上竞争力极强。 特别值得点赞的，是我们的创新精神。这次不是跟着人家PG后面追，而是独创了全新的技术路线。如果我们最终走通了这条路，可能会给世界IT行业带来颠覆性的重新洗牌。
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