半导体领域的专利大战已经从IC领域延伸到设备领域，尼康今日宣布，已对荷兰半导体行业光刻系统供应商阿斯麦（ASML）和德国光学及光电子学设备厂商卡尔蔡司（Carl Zeiss）提起诉讼，指控这两家公司未经授权而使用其光刻技术。尼康称，已在荷兰、德国和日本对阿斯麦和卡尔蔡司提起诉讼。卡尔蔡司是阿斯麦的光学设备供应商。尼康在一份声明中称：“阿斯麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下，在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。”当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。评级机构“惠誉评级”（Fitch Ratings）今年1月发布的调研报告显示，在高端光刻机市场，阿斯麦的份额高达90%。
尼康在诉讼文件中称，要求阿斯麦和卡尔蔡司对未授权使用专利技术而做出赔偿。对此，阿斯麦总裁兼CEO彼得·温尼克（Peter Wennink）称：“尼康的诉讼毫无依据，没有必要，为半导体市场制造了不确定性。”温尼克还称，阿斯麦曾多次试图与尼康谈判，希望能对当前的一份交叉授权协议进行延期。
10nm工艺节点即将大规模普及，同时这也意味着我们很快进入7nm阶段，不过，7nm的技术挑战已不可同日而语，其中的关键就是EUV（极紫外）光刻机。
下图是荷兰ASML公司颠覆时代的EUV光刻机NXE 3350B示意图，单价超过6亿人民币，现货还要等。
在当今高端沉浸式光刻机中荷兰ASML（阿斯麦）占据80%的份额，是绝对的龙头。近日，阿斯麦也公布了财报数据，Q1净营收为19.4亿欧元，毛利率47.6%，而它们所做的一切，不过是卖出数十台光刻机而已。
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