国产光刻机被誉打破“晶片荒” 内媒批：驴吹成马

自中美贸易战爆发以来，晶片生产技术一直为各界焦点，例如内地电讯龙头中兴因一度遭美国「封杀」，几乎陷于没顶之灾。其后中国领导人不断呼吁科研人才开发「核心技术」，反复强调「大国重器」不能假手于人。

11月29日，中科院研制的「超分辨光刻装备」通过验收，光刻分辨力达到22纳米。部份内媒以〈国产光刻机伟大突破，国产晶片白菜化在即〉和〈厉害了我的国，新式光刻机将打破「晶片荒」〉之类为题，庆祝中国不再受制于人。然而内地《科技日报》12月2日刊文指出，这类报道只是一厢情愿。

报道指出，就晶片制作而言，光刻机作用在于「印刷」电路，就像照相，图像投在感光底片上，蚀掉一部份。自光刻技术面世半个多世纪以来，为了节省能源和所需矽料，晶片愈做愈小，致使投影刻划难度愈来愈高，因而催生顶尖光刻机利用波长13.5纳米的极紫外光源，以刻划10纳米以下的线条。