9nm光刻机成了 来源：tmbb2010博客 分类： 🔬 科教 发布时间：2019-04-16 06:25:44 ☆ 收藏 0 ⭐ 收藏需要一个账号 注册之后就能把喜欢的新闻和话题存起来，随时在「我的收藏」里翻看。注册是免费的。 免费注册 已有账号，登录 分享 微 LINE 书 ↗ 🔗 声明：本文转载自 「tmbb2010博客」， 或因排版与篇幅原因进行过编辑，内容未经本站独立核实，不代表本站立场、观点或建议。 如涉及版权问题，请联系我们，核实后立即删除。 [ 免责声明 ] 🔊 朗读 ⏸ 暂停 ⏹ 停止 语速 0.8× 1× 1.25× 1.5× 从武汉光电国家研究中心获悉，该中心甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制，采用远场光学的办法，光刻出最小9纳米线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。光刻机是集成电路生产制造过程中的关键设备，主流深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻机主要由荷兰ASML公司垄断生产，属于国内集成电路制造业的“卡脖子”技术。
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