韩国企业发力，在EUV光刻技术方面取得重大进展

EUV（极紫外光源）光刻机目前只有荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）能制造出来，有消息称，韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得了进展，但并没有指明是哪一家企业，合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业。

ASML是全球最大半导体设备制造商。（荷兰ASML官网）

韩国媒体BusinessKorea11月13日报道，在过去的十年中，包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发，以确保技术处于领先地位。最近，代工公司（意指三星）开始使用5纳米EUV光刻技术来生产智能手机的应用处理器（AP）。

韩国知识产权局发布的《近10年（2011年至2020年）专利申请报告》显示，2014年，向韩国知识产权局提交的与EUV相关的专利申请数量达到88件，2018年达到55件，2019年达到50件。

特别是，韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年，韩国人提交的专利申请数量为40件，超过了国外企业的10件。这是韩国提交的专利申请量首次超过国外企业。

按公司划分，全球六大公司的专利申请数占了总数的59%，卡尔蔡司占18%，三星电子占15%，ASML占11%，S&S Tech占8%，台积电占6%，SK 海力士占1%。

从具体的技术项目来看，曝光装置技术申请专利占31%，掩膜技术申请专利占28%，其他申请专利占9%。在工艺技术领域，三星电子占39%，台积电占15%。在光罩领域，S&S科技占28%，Hoya占15%，汉阳大学占10%，朝日玻璃占10%，三星电子占9%。