三星电子与SK海力士在人工智能需求驱动下大举扩张产能,两家公司2026年上半年半导体设施投资合计同比增长逾三成。
8月17日,据韩国媒体Etoday援引两家公司2026年半年报,三星电子与SK海力士上半年半导体设施投资合计达43.198万亿韩元,较上年同期的31.98万亿韩元增长35.1%。两家公司产能利用率均达到100%,显示当前AI存储需求之旺盛。
客户结构方面,英伟达在SK海力士营收中的占比从2025年全年的24%降至13.35%,而英伟达在同期甚至未出现在三星的前五大客户名单之中。这反映出两家公司AI业务布局的路径差异。
AI需求旺盛,两大存储巨头加速扩产
从投资节奏来看,SK海力士扩张更为激进。
三星电子DS部门上半年设施投资同比增长23.5%,主要投向下一代存储、先进制程产能及相关基础设施;SK海力士设施投资则同比大增56.4%,重点满足HBM、大容量DRAM以及企业级SSD需求。
两家公司产能利用率均达到100%,意味着现有产能基本处于满负荷状态。在AI基础设施建设持续推进的背景下,HBM等高端存储产品需求快速增长,也推动三星和SK海力士提前为下一代产品扩充产能。
换言之,这轮资本开支并非单纯追赶当前需求,而是在争夺下一轮AI存储增长中的产能与技术优势。
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