2纳米磁性壳层破解高频软磁三难

在国家自然科学基金、广东省重点研发计划等项目资助下，松山湖材料实验室/中国科学院东莞材料科学与技术研究所研究员柯海波、汪卫华团队提出“原位纳米磁性氧化物界面工程+超低压力成型”一体化制备策略。相关成果近日发表于《材料科学技术》（Journal of Materials Science & Technology）。

引入纳米级Fe4N相实现超高饱和磁感应强度。研究团队供图，下同

当前，电力电子、5G/6G通信、AI服务器及新能源汽车等领域对电子元器件的高频化、大功率、小型化和低能耗要求日趋严苛。软磁材料作为能量转换与信号传输的核心功能材料，长期面临“高饱和磁化强度、高频稳定磁导率、低损耗”难以兼得的困境：硅钢高频损耗过高，铁氧体虽损耗低但饱和磁化强度不足，无法满足大功率需求。

非晶基软磁复合材料被认为是最具潜力的候选方案，但其性能提升受制于三重矛盾——非晶形成能力与铁含量的制约限制了饱和磁化强度；非磁性绝缘包覆层会稀释磁性相；传统多步制备工艺（粉末制备、包覆、高压压制、退火）环节相互牵制，易破坏绝缘层或诱发晶化。

表面纳米工程实现磁导率与损耗协同优化。