黄仁勋称中国 2030 年将搞定国产先进光刻机,这一判断能否实现?
外来客 • 2026-10-08 21:03:39
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英伟达CEO黄仁勋在All-In峰会上判断，中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统。他还认为，一旦技术成熟，中国有很强的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。 这个判断明显比蔡司更乐观。蔡司半导体负责人Frank Rohmund最近称，中国要做出国产EUV光刻机，可能还需要约15年。蔡司是阿斯麦EUV光学系统的核心供应商。 不过主持人问的是“advanced lithography systems”，没有具体限定为EUV，黄仁勋在回答中也没有进一步说是EUV。 黄仁勋：中国2030年搞定国产先进光刻机
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