加速推动芯片自主，中国建成首条ArF光刻胶生产线

据报道，宁波南大光电材料有限公司已经建成了中国首条ArF光刻胶生产线，并生产了一些样本送到客户手上做测试。

中国力推国产芯片发展，图为工作人员展示澳门大学自主设计的模拟数字转换器芯片。（新华社）

据介绍，这条生产线的投资达6亿元人民币（1元人民币约合0.15美元），它生产的ArF光刻胶，可以应用于制造90纳米（nm）至14纳米的芯片。

分析指，ArF光刻胶供应长期被美国和日本企业垄断，中国几乎只能依赖进口。虽然这条生产线在短期内未能打破美日垄断，但对中国将来实现芯片自主，具有重要意义。

不过，宁波南大光电亦表明，这个“ArF光刻胶开发和产业化项目”尚处于光刻胶样品验证阶段，还未形成量产。验证过程预计将需要12个月至18个月。

而ArF光刻胶除了工艺要求高之外，还存在稳定量产周期长、风险大等特点，而且后续是否能取得下游客户的订单，能否大规模进入市场，仍存在较多的不确定因素。

近年美国不断对中国发起科技战，从封杀中兴、华为事件到当前的技术之争，中共高层显然意识到了“芯片危机”。中共总书记习近平曾强调，中国要以科技创新催生新发展动能，大力提升自主创新能力，尽快突破关键核心技术。但中国科学院计算所研究员、龙芯中科董事长胡伟武认为，中国要根本解决“卡脖子”问题还需两个五年。他同时指出，集成电路方面，要先把短板补上，做出自己的生态体系；工业技术不要太追求5纳米、3纳米，先解决14纳米、28纳米自主化问题，形成闭环、迭代后再前进，会比原来快得多。