美國針對半導體製造設備進行出口管制，限制中國取得高階曝光機，不過除了先進製程使用的極紫外光（EUV）設備外，由美國研究機構CTS、美前出口管制官員撰寫的最新報告指出，中國晶片商仍獲得了高達343台的深紫外光（DUV）曝光機，其中大多是ASML的產品，顯示出口管制依然存在漏洞，呼籲美國與盟友「全面禁止對中國出口浸潤式DUV設備」。 港媒《南華早報》指出，總部位於華盛頓的政策研究機構「科技與國家治理能力中心」（Centre for Technology & Statecraft）發布最新報告，作者包括前美國出口管制官員、前美國商務部科技政策顧問。 美國晶片管制漏洞？中國晶片商大買343台DUV 報告表示，截至2026年年初，中國晶片製造商預估已獲得了343台浸潤式DUV，其中有270台屬於荷蘭巨頭艾司摩爾（ASML）的Twinscan NXT:1980i系統；在2024年及2025年，中國晶圓廠就花費超過130億美元，分別購買約90台、89台的NXT:1980i。 報告提到，美國禁止對中出口EUV，因此中國晶片製造商高度依賴不在管制範圍內的浸潤式DUV。而荷蘭政府從2023年9月起，就規定ASML更高階的NXT:2000i與以上型號的浸潤式DUV需要出口許可，NXT:1980i雖也需要許可證，不過仍透過逐案審查獲得批准。 DUV造不出先進晶片？華為新系列、高階記憶體都用它 報告指出，雖然DUV是較極紫外光（EUV）落後的技術，但經調整後，仍能用來製造包括華為昇騰系列的7奈米晶片、AI處理器所需的高階記憶體。報告作者估計，在配套設備充足的中國晶圓廠，一台NXT：1980i，每年可能支持生產超過10萬顆昇騰910C等效晶片。 報告強調，目前的出口管制做法存在重大漏洞，因此建議「全面禁止向中國出口浸潤式DUV」，並限制相關零件供應與維修服務，同時呼籲美國與荷蘭協調、或單方面地將出口管制，擴大到採用美國技術的外國製造設備。 更多風傳媒獨家內幕： ‧ 中國趕上曝光機、晶圓製造腳步要多久？馬斯克預言：只要3年就能解決 ‧ 台積電與ASML宣布重磅合作！聯手改寫曝光機規格 12吋光罩High NA EUV量產時程曝光 ‧ 華為、中芯都逃不掉！全中國晶片業都依賴ASML「這款曝光機」 美國擬立法全面封殺
评论 (0)