荷兰巨头1nm光刻机迎突破，中国订购的EUV光刻机仍未拿到手

据报道，先进制程的光刻机对于曝光设备的分辨率要求更高。与此同时，ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计工作。

按照ASML的计划，预计相应的曝光设备全线准备好之后，会在2022年实现商业化。

然而，这家荷兰企业的光刻机制造技术却变得重大突破之际，中国芯片制造巨头——中芯国际自ASML订购的EUV光刻机至今却还未到货。据悉，中芯国际于2018年自ASML手上购买了一台价值约1.2亿美元的EUV光刻机。

由于订购的设备一直没到手，中芯国际也在11月11日当天下调了一部分资本支出，将原本约457亿元人民币（1元人民币约合0.14美元）的开支计划减少了55亿元至约402亿元。